2021 年半年度报告
公司代码：688079 公司简称：美迪凯
杭州美迪凯光电科技股份有限公司
2021 年半年度报告
2021 年半年度报告
重要提示
一、本公司董事会、监事会及董事、监事、高级管理人员保证半年度报告内容的真实、准确、完
整，不存在虚假记载 、误导性陈述或重大遗漏，并承担个 别和连带的法律责任。
二、重大风险提示
公司已在本报告中详细阐述在经营过程中可能面临的各种风险及应对措施，敬请查阅本报告第三节“管理层讨论与分析”中“五、 风险因素” 相关的内容。
三、公司全体董事出席董 事会会议。
四、本半年度报告未经审 计。
五、公司负责人葛文志、主管会计工作负责人华朝花及会计机构负责人（会计主管人员）周星星
声明：保证半年度报 告中财务报告的真实、准确、完整。
六、董事会决议通过的本 报告期利润分配预案或公积金转增股 本预案
无
七、是否存在公司治理特 殊安排等重要事项
□适用 √不适用
八、前瞻性陈述的风险声 明
√适用 □不适用
本报告所涉及的未来计划、发展战略等前瞻性陈述，不构成公司对投资者的实质承诺，请投资者注意投资风险。
九、是否存在被控股股东 及其关联方非经营性占用资金情况
否
十、是否存在违反规定决 策程序对外提供担保的情况
否
十一、是否存在半数以上董 事无法保证公司所披露半年度报告的 真实性、准确性和完整性
否
十二、其他
□适用 √不适用
目录
第一节 释义......4
第二节 公司简介和主要财 务指标 ...... ...... ......5
第三节 管理层讨论与分析......8
第四节 公司治理......26
第五节 环境与社会责任......28
第六节 重要事项......30
第七节 股份变动及股东情 况 ...... ...... ......50
第八节 优先股相关情况......57
第九节 债券相关情况......57
第十节 财务报告......58
载有公司负责人、主管会计工作负责人、会计机构负责人（会计主管
备查文件目录 人员）签名并盖章的财务报表。
报告期内在中国证监会指定网站上公开披露过的所有公司文件的正本
及公告的原稿。
第一节 释义
在本报告书中，除非文义另有所指，下列词语具有如下含义：
常用词语释义
公司、杭州美迪凯、美迪凯 指 杭州美迪凯光电科技股份有限公司
实际控制人 指 葛文志
浙江美迪凯 指 浙江美迪凯现代光电有限公司，系公司一级全资子公司
浙江嘉美 指 浙江嘉美光电科技有限公司（已更名），系公司一级 全
资子公司
美迪凯光学半导体 指 浙江美迪凯光学半导体有限公司（曾用名：浙江嘉美光
电科技有限公司），系公司一级全资子公司
捷姆富 指 捷姆富（浙江）光电有限公司，系公司二级控股子公司
美迪凯（日本） 指 美迪凯（日本）株式会社，系公司二级全资子公司
丽水美迪凯 指 丽水美迪凯投资合伙企业（有限合伙），系公司控股 股
东
美迪凯集团 指 美迪凯控股集团有限公司（曾用名“浙江美迪凯光学技
术有限公司”），系公司股东
丰盛佳美 指 香港丰盛佳美（国际）投资有限公司，系公司股东
景宁倍增 指 景宁倍增投资合伙企业（有限合伙），系公司股东
丽水增量 指 丽水增量投资合伙企业（有限合伙），系公司股东
丽水共享 指 丽水共享投资合伙企业（有限合伙），系公司股东
海宁美迪凯 指 海宁美迪凯企业管理咨询合伙企业（有限合伙），系 公
司股东
粤莞制造 指 粤莞先进制造产业（东莞）股权投资基金（有限合伙），
系公司股东
珠海成同 指 珠海成同股权投资基金合伙企业（有限合伙），系公 司
股东
CCD 指 Charge-Coupled Device，即电荷耦合元件，是一种用电
荷量表示信号大小，用耦合方式传输信号的探测元件
CMOS 指 Complementary Metal Oxide Semiconductor，即互补金属
氧化物半导体，指制造大规模集成电路芯片用的一种技
术或用这种技术制造出来的芯片
CIS 指 CMOS Image Sensor，即 CMOS 图像传感器
半导体封测 指 将通过测试的晶圆按照产品型号及 功能需求加工得到
独立芯片的过程
AR 指 Augmented Reality，即增强现实，通过相关设备 ，在现
实世界中的对象和信息之上叠加数字信息，进行展示和
互动
MR 指 Mixed Reality，即混合现实，该技术通过相关设备， 在
现实场景呈现虚拟场景信息，在现实世界、虚拟世界和
用户之间搭起一个交互反馈的信息回路，以增强用户体
验的真实感
CCD 指 Charge-Coupled Device，即电荷耦合元件，是一种用电
荷量表示信号大小，用耦合方式传输信号的探测元件
PVD 指 Physical Vapor Depos ition，即物理气相沉积。指利用 物
理过程实现物质转移，将原子或分子由源转移到基材表
面上的过程。物理气相沉积的基本方法包括真空蒸发、
溅射、离子镀等
CVD 指 Chemical Vapour Deposition，即化学气相沉积。指化学
气体或蒸汽在基材表面反应合成涂 层或纳米材料的方
法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料
的技术
TTV 指 TotalThicknessVariation，总厚度变化量，指整个晶片的
最高厚度和最低厚度之间的差值
晶圆 指 制造半导体晶体管或集成电路的衬底，也叫基片，由于
是晶体材料，其形状为圆形，所以称为晶圆
CRA 指 Chief RayAngle，即主光线角度。从镜头的传感器一侧，
可以聚焦到像素上的光线的最大角 度被定义为一个参
数，称为主光线角度
CIM 指 Computer-Integrated Manufacturing，即计算机集成制造
ToF 指 TimeofFlight，飞行时间测距法，即通过给目标连续发
送光脉冲，然后用传感器接收从物体返回的光，通过探
测光脉冲的往返时间来得到目标物距离
ADAS 指 Advanced Driving AssistanceSystem，高级驾驶辅助系统
HUD 指 Head Up Display，即抬头显示
JSW、日本制钢所 指 TheJapan SteelWorks,Ltd，即日本制钢所株式会社。该
公司以电力、石油、天然气等与能源相关的各种产品为
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