603690 沪市 至纯科技

公司代码：603690                                          公司简称：至纯科技

    上海至纯洁净系统科技股份有限公司

            2022 年年度报告


                          重要提示

一、本公司董事会、监事会及董事、监事、高级管理人员保证年度报告内容的真实性、准确性、
  完整性，不存在虚假记载、误导性陈述或重大遗漏，并承担个别和连带的法律责任。
二、公司全体董事出席董事会会议。
三、 众华会计师事务所（特殊普通合伙）为本公司出具了标准无保留意见的审计报告。

四、公司负责人 蒋渊 、主管会计工作负责人 陆磊 及会计机构负责人（会计主管人员） 陆磊
  声明：保证年度报告中财务报告的真实、准确、完整。
五、 董事会决议通过的本报告期利润分配预案或公积金转增股本预案

  2022年度拟每10股派发现金红利1.324元（含税），并每10股派送红股2股（含税）（每股面值1元）。
六、 前瞻性陈述的风险声明
√适用 □不适用

  本报告中所涉及的未来计划、发展战略等前瞻性描述不构成对投资者的实质承诺，敬请投资者注意投资风险。
七、是否存在被控股股东及其他关联方非经营性占用资金情况
否
八、  是否存在违反规定决策程序对外提供担保的情况
否
九、  是否存在半数以上董事无法保证公司所披露年度报告的真实性、准确性和完整性
 否
十、  重大风险提示

  报告期内，不存在对公司生产经营产生实质性影响的特别重大风险。公司已在本报告中详细描述可能面对的相关风险，敬请查阅“第三节 管理层讨论与分析”之“六、公司关于公司未来发展的讨论与分析”之“（四）可能面对的风险”相关内容。
十一、 其他
□适用 √不适用


                            目录


第一节    释义...... 3
第二节    公司简介和主要财务指标 ...... 7
第三节    管理层讨论与分析 ...... 13
第四节    公司治理...... 38
第五节    环境与社会责任 ...... 56
第六节    重要事项...... 61
第七节    股份变动及股东情况 ...... 80
第八节    优先股相关情况 ...... 92
第九节    债券相关情况 ...... 93
第十节    财务报告...... 94

                      一、载有公司负责人、主管会计工作负责人、会计机构负责人（会计
                      主管人员）签名并盖章的财务报表；

    备查文件目录    二、载有会计师事务所盖章、注册会计师签名并盖章的审计报告原

                      件；

                      三、报告期内在中国证监会指定网站上公开披露过的所有公司文件的
                      正本及公告的原稿。


                        第一节  释义

一、 释义
在本报告书中，除非文义另有所指，下列词语具有如下含义：
 常用词语释义

 公司、本公司、至纯科  指  上海至纯洁净系统科技股份有限公司

 技

 证监会              指  中国证券监督管理委员会

 上交所              指  上海证券交易所

 报告期              指  2022 年 1 月 1 日至 2022 年 12 月 31 日

 上年、去年、同期    指  2021 年 1 月 1 日至 2021 年 12 月 31 日

 元、万元、亿元      指  人民币元、人民币万元、人民币亿元，法定流通货币

 尚纯投资            指  共青城尚纯科技产业投资合伙企业(有限合伙)

 平湖合波            指  平湖合波投资管理合伙企业（有限合伙）

 平湖波威            指  平湖波威投资管理合伙企业（有限合伙）

 上海蒲锐迪          指  上海蒲锐迪投资合伙企业（有限合伙）

 颀瑞投资            指  井冈山颀瑞投资合伙企业（有限合伙）

 海丝民和            指  青岛海丝民和股权投资基金企业（有限合伙）

 青岛海丝民合        指  青岛海丝民合半导体投资中心（有限合伙）

 至微半导体          指  至微半导体（上海）有限公司

 波汇科技            指  上海波汇科技有限公司

 SEMI                指  Semiconductor Equipment  and Materials International，
                        国际半导体设备与材料产业协会

 WSTS                指  世界半导体贸易统计组织（WSTS）

 DNS                指  SCREEN Holdings Co.,Ltd.

 东京电子(TEL)      指  TOKYO ELECTRON LTD.

 Lam Research        指  LAM RESEARCH CORPORATION

 和辉光电            指  上海和辉光电股份有限公司(688538.SH)

 北方华创            指  北方华创科技集团股份有限公司(002771.SZ)

 芯源微              指  沈阳芯源微电子设备股份有限公司(688037.SH)

 盛美上海            指  盛美半导体设备（上海）股份有限公司（688082.SH）

                    指  Semiconductor Manufacturing  International  Corporation（中芯国
 中芯国际                际集成电路制造有限公司），上交所科创板证券代码：688981.SH，
                        港交所股份代号：00981.HK。

 华虹                指  华虹半导体有限公司（01347.HK）


华力                指  上海华力微电子有限公司

长江存储            指  长江存储科技有限责任公司

合肥长鑫            指  合肥长鑫集成电路有限责任公司

士兰微              指  杭州士兰微电子股份有限公司（600460.SH）

西安三星            指  三星半导体（西安）有限公司

无锡海力士          指  SK 海力士系统集成电路(无锡)有限公司

北京燕东            指  北京燕东微电子股份有限公司(688172.SH)

TI                  指  德州仪器半导体技术（上海）有限公司

华润微              指  华润微电子有限公司（688396.SH）

富乐德              指  安徽富乐德科技发展股份有限公司（301297.SZ）

高美可              指  高美可科技(无锡)有限公司

世禾科技            指  世禾科技股份有限公司，系中国台湾地区上柜公司（股票代码
                        3551）

应友光电            指  湖北应友光电科技有限公司

晶科                指  晶科能源控股有限公司,上交所科创板代码:688223.SH，纽交所代
                        码:JKS

天合                指  天合光能股份有限公司（688599.SH）

晶澳                指  晶澳太阳能科技股份有限公司(002459.SZ)

通威                指  通威股份有限公司（600438.SH）

钧达                指  海南钧达新能源科技股份有限公司（002865.SZ）

润阳                指  江苏润阳新能源科技股份有限公司

先进制程            指  28 纳米、14 纳米、7 纳米制程

高纯工艺            指  泛半导体（集成电路、平板显示、光伏、LED 等）、生物制药等先
                        进制造业的产品生产工艺中以不纯物控制技术为核心的工艺

清洗                指  贯穿半导体制造的重要环节，用于清洗原材料及每个步骤中半成品
                        上可能存在的杂质，避免杂质影响成品质量和下游产品性能

刻蚀                指  半导体制造工艺，微电子 IC 制造工艺以及微纳制造工艺中的一种
                        相当重要的步骤，是与光刻相联系的图形化处理的一种主要工艺

光刻                指  利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递
                        到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术

                        向晶片注入特定杂质，为形成半导体元件创建特定区域；在经过蚀
扩散                指  刻过程的电路图案的特定部分注入离子形态的杂质，形成电子元件
                        的区域，通过气态（Gas）间的化学反应形成的物质沉积在晶片表
                        面，形成各种膜的过程。


涂胶                指  将光刻胶均匀涂覆到晶圆表面的过程

显影                指  将曝光完成的晶圆进行成像的过程，通过这个过程，成像在光阻上
                        的图形被显现出来

炉管                指  半导体工艺中广泛应用于氧化、扩散、薄膜沉积等工艺的设备

晶圆                指  硅半导体集成电路制作所用的硅晶片，形状为圆形

高纯介质            指  高纯气体、高纯化学品、高纯水等介质

                        化学气相沉积，指把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂
CVD（化学气相沉积） 指  的蒸气及反应所需其它气体引入反应室，在衬底表面发生化学反应
                        生成薄膜的过程。在超大规模集成电路中很多薄膜都是采用 CVD
                        方法制备

                        集成电路，是采用半导体制作工艺，在一块较小的单晶硅片上制作
IC                  指  许多晶体管及电阻器、电容器等元器件，并按照多层布线或隧道布
                        线的方法将元器件组合成完整的电子电路


              第二节  公司简介和主要财务指标

一、 公司信息

 公司的中文名称                      上海至纯洁净系统科技股份有限公司

 公司的中文简称                      至纯科技

 公司的外文名称                      PNC Process Systems Co.,Ltd

 公司的外文名称缩写                  PNC

 公司的法定代表人