证券代码：300706 证券简称：阿石创 公告编号：2023-007
福建阿石创新材料股份有限公司 2022 年年度报告摘要
一、重要提示
本年度报告摘要来自年度报告全文，为全面了解本公司的经营成果、财务状况及未来发展规划，投资者应当到证监会指
定媒体仔细阅读年度报告全文。
所有董事均已出席了审议本报告的董事会会议。
致同会计师事务所（特殊普通合伙）对本年度公司财务报告的审计意见为：标准的无保留意见。
本报告期会计师事务所变更情况：公司本年度会计师事务所由变更为致同会计师事务所（特殊普通合伙）。
非标准审计意见提示
□适用 ？不适用
公司上市时未盈利且目前未实现盈利
□适用 ？不适用
董事会审议的报告期利润分配预案或公积金转增股本预案
？适用 □不适用
公司经本次董事会审议通过的利润分配预案为：以 152,852,499 股为基数，向全体股东每 10 股派发现金红利 0.10 元（含
税），送红股 0 股（含税），以资本公积金向全体股东每 10 股转增 0 股。
董事会决议通过的本报告期优先股利润分配预案
□适用 ？ 不适用
二、公司基本情况
1、公司简介
股票简称 阿石创 股票代码 300706
股票上市交易所 深圳证券交易所
联系人和联系方式 董事会秘书 证券事务代表
姓名 姚兴存 谢文武
办公地址 福建省福州市长乐区漳港街道漳湖路 66 号 福建省福州市长乐区漳港街道漳湖路 66 号
传真 0591-28798333 0591-28798333
电话 0591-28673333 0591-28673333
电子信箱 zqswb@acetron.com.cn zqswb@acetron.com.cn
2、报告期主要业务或产品简介
（一）PVD 行业简介
物理气相沉积（PVD）为真空镀膜技术的一个分支路线，相较于传统的电镀、化学镀、热加工等工艺，具有以下优点：（1）成膜均匀，硬度高，耐极端使用环境；（2）颜色多样化，可在红黄蓝三原色基础之上任意调色；（3）材料适应范围广，尤其针对不导电材料；（4）环保无污染，无铬离子等重金属污染。
PVD 技术分为蒸镀法、溅镀法和离子镀法。三种方法各有优劣势：蒸镀速度快，溅镀法均匀性好，离子镀绕镀能力
强。不同方法的选择主要取决于产品用途与应用场景。
从应用角度来看，PVD 镀膜作为物体表面处理技术，应用空间非常广泛，不同应用有不同的要求，例如半导体、平
板光伏对镀膜材料织构要求较高，光学、防伪对膜层设计要求较高，电磁+传感对原材料的要求较高。
PVD 设备主要包括真空系统（主泵、罗茨泵、机械泵、维持泵）、镀膜系统（溅射源、蒸发源）、电源、辅助系统等。
国内主要以广东、成都、兰州、上海、沈阳等传统国有真空设备厂商及其延伸厂商为主，但整体技术实力相较国际一线厂商如爱发科、应用材料(AKT）等仍有差距。
（二）PVD 材料简介
根据镀膜设备与使用场景的不同，可以按照外形尺寸将靶材分为蒸镀材料（蒸镀靶材）、平面靶材、旋转靶材等，蒸镀材料（蒸镀靶材）适用于蒸发镀膜，加热方式有电阻、感应、电子束等，平面靶材、旋转靶材适用于溅射镀膜，采用离子源轰击模式。
PVD 材料的生产可以分为粉末冶金、金属熔铸两类工艺，粉末冶金（含喷涂）适用于难熔金属、化合物、合金靶材，
金属熔铸（含挤压）适用于普通易熔炼金属，常见的靶材性能指标有纯度1、晶粒大小与取向（织构）、致密度、气体含量等。
PVD 材料的技术壁垒体现在设备端配合修正、工艺端制造、应用端理解等。
（1）设备端：高精度的 PVD 设备，对靶材的一致性要求极高，所以后续替代原厂的靶材供应商，不仅要具备靶材
制造能力，还需要设备微调能力，进而适应不同环境下的设备；
（2）工艺端：PVD 材料生产的核心技术可以分为纯度控制、金属成分与粉末设计、微观结构控制、表面设计、材
料分析与评价等方面。从工艺路线来看，金属熔铸工艺难点主要在织构环节，即通过精密轧制与加工，获得晶粒均匀、晶向一致的微观结构；粉末工艺的难点在制粉环节颗粒均匀性，烧结环节温度曲线、气流控制、烧结气氛等；
（3）应用端：PVD 优秀的环保性、成膜性、多色彩，使得 PVD 的应用空间愈加广泛，靶材供应商需从战略角度拓
展 PVD 的应用场景。
从产业链角度来看，PVD 行业的上游为高纯金属或者化合物原料，下游为各类应用制造场景，如面板、半导体等。
1 金属靶材的纯度主要由高纯金属供应商决定，靶材生产商主要考量织构、致密度等性能指标。
过往 PVD 材料的主要市场集中在平板显示、半导体、光学、装饰等领域，近年来市场竞争激烈，拓展更为广阔的应用场景，是 PVD 材料企业的战略出发点。
（三）公司主要业务
阿石创成立于 2002 年，总部位于福建福州，在福建、江苏、台湾等都设有生产基地。公司专业从事 PVD 镀膜材料
的研发、生产与销售，自主研发 200 多款高端镀膜材料，产品覆盖光学、光伏、半导体、平板显示等多个领域。
阿石创作为国内 PVD 镀膜材料行业设备齐全、技术先进、产品多元化的龙头企业之一，累计获授权专利百余项，先
后被授予国家级高新技术企业、工信部“专精特新”小巨人企业等荣誉。
在研发端，阿石创现拥有真空镀膜机、烧结系统、等离子喷涂设备、电子束焊机等主要生产设备 250 余台（套），
GDMS 质谱仪、扫描电镜、光谱仪、真空镀膜机等研发和检测设备 100 多台（套）；公司设立研发中心，集研发、检测
为一体，其中国家科技部高端外国专家 1 人、省“百人计划”专家团队 1 个、省高层次 ABC人才 2 人、市级青年科技人
才 2 人；近年来公司先后荣获“2020 年度国家技术发明二等奖”、“中国有色金属工业科技一等奖”等重量级荣誉。
（四）公司核心竞争力
公司从成立至今一直专注于 PVD 镀膜材料领域。2002 年公司成立并开始涉足光学镀膜材料，2005 年进入汽车玻璃
用镀膜材料，2010 年进入溅射靶材领域，2013 年导入苹果供应链，2015 年自主研发的高纯钼靶导入一线面板厂，2017年 ITO靶材量产线投产，2020年半导体芯片用靶材开始试产。
1、过往的 20 年，公司累计服务全球范围超过 400 家客户，涵盖光学光通信、平板显示、节能玻璃、LED、光伏等
行业，同京东方、群创光电、华星光电、深天马、福耀玻璃、信义玻璃、蓝思科技、水晶光电、舜宇光学、EPSON 等数十家知名客户成为战略伙伴；
2、过往的 20 年，公司不局限于材料端，更与设备端日本爱发科、美国 AKT、国内诸多真空厂商保持良好的沟通；
3、过往的 20 年，公司累计了丰富的膜系设计、膜层分析经验，于未来应用奠定广泛基础。
综上，对 PVD 镀膜设备端、工艺端、材料端的复合理解力与综合应用能力是当前阿石创的核心竞争力，也是阿石创
未来拓宽 PVD 应用场景、建设 PVD 应用新项目的核心支持力。
（五）2022 年经营成果
2022 年，公司实现收入 6.95 亿元，同比增长 13.84%，毛利率 14.24%，下降 3.37%。
平板显示行业收入 2.13 亿元，同比增长 3.06%，毛利率 23.78%，提升 0.79%，平板显示用靶材主要有钼靶、铜靶、
铝靶、硅靶、ITO 靶材等。受多种因素叠加需求下滑的影响，2022 年公司下游客户景气度不高，以面板行业为例，根据
Omedia 报告，显示面板厂商整体稼动率从 2 月的 86%下修到 10 月的 60%，整体显示面板价格以 65 寸为例，从年初 188
美元/片跌至 10 月份的 110 美元/片。在行业背景不佳的情况下，公司年内打通铜、铝靶材等产品原料的自主熔炼，实现金属靶材制备工艺的全流程覆盖，钼、铜、铝等传统靶材的综合竞争力逐步体现，并研发出银合金靶、钨合金靶、铝合
金靶等高附加值产品。
光学光通讯收入 1.66 亿元，同比增长 7.59%，毛利率 9.92%，下降 6.96%，光学行业用 PVD 材料可分为蒸镀靶材与
溅射靶材，其中蒸镀靶材主要有金蒸镀料、二氧化硅、五氧化二钽、五氧化三钛、各类锥台，溅射靶材主要有硅靶、钽靶、铌靶等，光学行业的主要客户为服务手机等 3C 客户的镜头模组厂商，受行业消费下滑明显的原因，下游客户的整体稼动率在低位运行明显，公司部分产品如五氧化三钛、二氧化硅、锆钛合金等受较大影响。
节能玻璃收入 0.94 亿元，同比下降 12.29%，毛利率 7.06%，下降 5.70%。节能玻璃所用靶材主要为银靶材，白银原
材料成本高，毛利率较低，同时部分原料备货价格相对较高，使得去年银靶毛利率下降。
（六）2023 年经营计划
公司管理层深刻认识到拓宽 PVD 镀膜技术的应用场景是目前整体的战略任务，同时在传统的平板显示与光学领域需
做精做细。
在平板显示领域，自 2022 年 10 月面板价格已经企稳，面板厂稼动率也已企稳，公司平板显示用靶材面临的市场环
境也将大幅好转。公司主要产品钼靶、铜靶、铝靶的综合性价比优势逐步体现，随着新产线产能利用率的逐步提升，将会成为公司未来几年主要现金流来源。
在光学领域，利用 A/B 品策略差异化引导 3C 客户正在落实，同时 PVD 珠光颜料项目开始试产，相对云母工艺路线，
PVD 工艺路线的珠光颜料粉末粒径大幅缩小，遮盖力、颗粒感、变色度都大幅提升，产品售价也高于传统云母工艺的产品，希望能借此打开新的光学领域。
拓宽 PVD 镀膜技术的应用场景方面，公司 2023 年重点做的工作有两个，一是推广异质结电池用的 ITO 靶材，二是
复合铜箔项目。
异质结电池（HJT）相较传统 PERC 与 Topcon 在于非晶硅薄膜层的加入，可减少光生载流子的复合，进而提高开路
电压，但非晶硅薄膜层的横向导电性差，ITO靶材既可横向收集光生载流子，还可减少光反射，提高透光率。
ITO 靶材的生产过程可以分为制粉、造粒、成型、烧结、机加、绑定、探伤等环节，其中第一步制粉环节，传统的
氧化铟制备工艺为将金属铟先酸化再碱化得到氢氧化铟的湿法路线，进一步烧结到氧化铟，公司年内成功打通火法工艺，将铟与氧气直接反应得到氧化铟颗粒，相较湿法工艺可降本 200 元/公斤以上。在火法氧化铟基础之上，公司已打通全流程生产，同时烧结出单管长度超过 1.1 米的一体化旋转 ITO靶材。
2023 年，公司将扩大 ITO 生产规模，会同 HJT 设备厂商开展多品种材料的开发验证，集中力气在 HJT 光伏领域推
广验证。
公司 2023 年的另一个战略工作是复合铜箔的研发生产。复合铜箔是锂电负极集流体材料，采用类似三明治的结构，
在 PET、PP 等树脂材料上下各镀一层铜，其相较传统的
查看PDF原文
