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阿石创:2021年年度报告

公告日期:2022-04-16

阿石创:2021年年度报告 PDF查看PDF原文
福建阿石创新材料股份有限公司

        2021 年年度报告

          2022 年 04 月


                第一节 重要提示、目录和释义

  公司董事会、监事会及董事、监事、高级管理人员保证年度报告内容的真实、准确、完整,不存在虚假记载、误导性陈述或者重大遗漏,并承担个别和连带的法律责任。

  公司负责人陈钦忠、主管会计工作负责人林梅及会计机构负责人(会计主管人员)贺敏娜声明:保证本年度报告中财务报告的真实、准确、完整。

  所有董事均已出席了审议本报告的董事会会议。

  本报告如有涉及未来计划等前瞻性陈述,不构成公司对投资者的实质承诺,投资者及相关人士均应当对此保持足够的风险认识并且应当理解计划、预测与承诺之间的差异。并请投资者认真阅读本年度报告全文,并特别注意下列风险因素:

  1、原材料价格波动的风险及措施

  公司产品生产成本主要是直接材料,生产需要的主要原材料为金属,价格受市场供需关系影响,呈现不同程度的波动。如果未来原材料价格大幅波动,公司无法将原材料价格波动的风险及时向下游转移,将存在因原材料价格波动带来的毛利率下降、业绩下滑的风险。因此,针对于原材料价格波动的风险,公司主要采取如下措施:第一、加强供应商的开发与导入,丰富供应商数量与原料种类,建立健全供应商体系;第二、对部分主要原材料开展期货套期保值业务,利用商品期货市场的避险功能降低由于价格波动所造成的波动;第三、根据原材料市场价格的波动情况,适当调整公司产品价格,保证公司利益。


  2、经营业绩波动的风险及措施

  报告期内,公司处于快速发展阶段,在生产管理、财务管理、内部控制等方面将面临更高的挑战;目前,“平板显示溅射靶材建设项目”募投项目虽已结项但产能释放存在不确定因素,而“超高清显示用铜靶材产业化建设项目”募投项目仍尚在建设中。若公司不能有效应对市场竞争、行业发展以及经营规模扩张等多重环境变化,则公司未来生产经营业绩可能面临波动风险。因此,针对经营业绩波动的风险,公司主要采取如下措施:第一、进一步优化和调整经营管理体制,完善法人治理结构,提高企业管理水平;第二、加快募投项目建设进度,缩短新建产线中新设备、新技术、新工艺磨合期限,降低不稳定因素发生几率;第三、增强下游市场调查力度,跟进下游市场需求调整产品生产,并大力开发下游潜在市场,丰富产品市场结构。

  3、技术失密和人才流失的风险及措施

  PVD 镀膜材料行业对核心技术及人才的依赖性较高,核心技术的保密及拥有稳定、高素质的人才队伍对公司的发展壮大至关重要。若核心技术泄密或人才流失,将会造成公司产品失去竞争力、客户流失等后果,由此导致不能及时顺应市场变化的需求予以改变和发展,从而对公司经营业绩产生不利影响。因此,公司对于技术失密和人才流失的风险主要采取如下措施:第一、完善公司核心技术的保密管理制度,减少因人才流失而带来的技术泄露;第二、加强管理人员和技术人才的企业文化培训,丰富业余生活,提高管理人员和技术人才的企业归属感;第三、完善人力资源管理制度,提高人才招聘工作效率。

  4、应收账款发生坏账的风险及措施


  如果客户生产经营情况发生重大不利变化或宏观经济景气程度不佳,或者公司未能有效加强对应收账款的管理,公司可能将面临应收账款难以收回而发生坏账损失的风险。因此,公司对于应收账款的管理主要采取如下措施:第一、建立客户信用管理机制,及时跟踪和了解客户的经营状况和信用情况,重点发展商业信用好的稳定客户群,对存在经营风险及欠款逾期的客户及时采取催款措施,加大应收账款的清收力度;第二、从销售业绩考核机制上着手,将销售产品回款情况作为业务部门和销售人员业绩考核的重要依据。

  公司经本次董事会审议通过的利润分配预案为:以 152,852,499 为基数,向
全体股东每 10 股派发现金红利 0.10 元(含税),送红股 0 股(含税),以资本公
积金向全体股东每 10 股转增 0 股。


                        目录


第一节 重要提示、目录和释义...... 1
第二节 公司简介和主要财务指标...... 8
第三节 管理层讨论与分析......12
第四节 公司治理......38
第五节 环境和社会责任......59
第六节 重要事项......61
第七节 股份变动及股东情况......77
第八节 优先股相关情况......89
第九节 债券相关情况......90
第十节 财务报告......91

                        备查文件目录

(一)经现任法定代表人签字和公司盖章的本次年度报告全文和摘要。
(二)载有公司法定代表人、主管会计工作负责人、会计机构负责人签名并盖章的财务报表。
(三)报告期内在中国证监会指定网站上公开披露过的所有公司文件的正本及公告的原稿。


                          释义

            释义项                  指                              释义内容

阿石创、本公司、公司                指    福建阿石创新材料股份有限公司

台湾阿石创                          指    台湾阿石创新材料股份有限公司,公司全资子公司

顶创控股                            指    福建顶创控股有限公司,公司全资子公司

顶创金属材料                        指    福建顶创金属材料有限责任公司,福建顶创控股有限公司全资子公司

顶创再生资源                        指    福建顶创再生资源有限责任公司,福建顶创控股有限公司全资子公司

常州苏晶                            指    常州苏晶电子材料有限公司,福建顶创控股有限公司控股子公司

常州民兴新材料科技有限公司          指    常州苏晶电子材料有限公司全资子公司

台湾苏晶股份有限公司                指    常州苏晶电子材料有限公司全资子公司

控股股东/实际控制人                  指    陈钦忠、陈秀梅夫妇

中国证监会                          指    中国证券监督管理委员会

深交所                              指    深圳证券交易所

报告期                              指    2021 年 1 月 1 日-12 月 31 日

元、万元                            指    人民币元、人民币万元

京东方                              指    京东方科技集团股份有限公司

友达光电                            指    友达光电股份有限公司

群创光电                            指    群创光电股份有限公司

水晶光电                            指    浙江水晶光电科技股份有限公司

维信诺                              指    维信诺科技股份有限公司

蓝思科技                            指    蓝思科技股份有限公司

伯恩光学                            指    伯恩光学有限公司

高意科技                            指    高意科技股份有限公司

华星光电                            指    深圳市华星光电半导体显示技术有限公司

深天马                              指    天马微电子股份有限公司

JX 金属                              指    JX 日矿日石金属株式会社

霍尼韦尔                            指    Honeywell International

普莱克斯                            指    普莱克斯(纽约证交所交易代码:PX)

东曹                                指    东曹株式会社

薄膜材料                            指    简称“薄膜”,采用特殊方法,在基板材料(如屏显玻璃、光学玻璃
                                            等)的表面沉积或制备的一层性质与基板材料完全不同的物质层,厚


                                            度一般小于 1 微米。

                                            物理气相沉积法(Physical Vapor Deposition),一种产生薄膜材料的技
                                            术,在真空条件下采用物理方法,将某种物质表面气化成气态原子、
PVD                                指

                                            分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基
                                            板材料表面沉积具有某种特殊功能的薄膜材料的技术。

                                            一种 PVD 薄膜制备技术,利用离子源产生的离子,在真空中经过加
                                            速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表
溅射                                指

                                            面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面
                                            的过程。

                                            在溅射过程中高速度能的离子束流轰击的目标材料,是制备薄膜材料
靶材、溅射靶材                      指

                                            的原材料。

蒸镀材料                            指    真空蒸发镀膜过程中被加热蒸发的物质,是制备薄膜材料的原材料。

                                            平面靶材的底层部分,起到连接支撑靶坯材料、导热、导电的作用,
背板                                指

                                            一般由金属材料制成,与靶坯材料绑定复合后作为整体靶材使用。

ITO                                指    Indium Tin Oxide,氧化铟锡


              第二节 公司简介和主要财务指标

一、公司信息

 股票简称                  
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