公司代码：688082 公司简称：盛美上海
盛美半导体设备（上海）股份有限公司
2021 年年度报告
重要提示
一、 本公司董事会、监事会及董事、监事、高级管理人员保证年度报告内容的真实性、准确性、
完整性，不存在虚假记载、误导性陈述或重大遗漏，并承担个别和连带的法律责任。
二、公司上市时未盈利且尚未实现盈利
□是 √否
三、重大风险提示
报告期内，不存在对公司生产经营产生实质性影响的特别重大风险。公司已在报告中详细描述可能存在的相关风险，敬请查阅“第三节 管理层讨论与分析：四、风险因素”部分内容。
四、公司全体董事出席董事会会议。
五、 立信会计师事务所（特殊普通合伙）为本公司出具了标准无保留意见的审计报告。
六、 公司负责人 HUI WANG、主管会计工作负责人 LISA YI LU FENG 及会计机构负责人（会计主管
人员）LISA YI LU FENG 声明：保证年度报告中财务报告的真实、准确、完整。
七、 董事会决议通过的本报告期利润分配预案或公积金转增股本预案
充分考虑到公司目前处于发展期，研发项目及经营规模不断扩大，资金需求较大，为更好地维护全体股东的长远利益，保障公司的可持续发展和资金需求，公司2021年度拟不进行利润分配，也不进行资本公积金转增股本。本议案已经公司第一届董事会第十七次会议审议通过，尚需公司2021年年度股东大会审议。
八、 是否存在公司治理特殊安排等重要事项
□适用 √不适用
九、 前瞻性陈述的风险声明
√适用 □不适用
本报告所涉及的公司规划、发展战略等非既成事实的前瞻性陈述，不构成公司对投资者的实质承诺，敬请投资者注意相关风险。
十、 是否存在被控股股东及其关联方非经营性占用资金情况
否
十一、 是否存在违反规定决策程序对外提供担保的情况
否
十二、 是否存在半数以上董事无法保证公司所披露年度报告的真实性、准确性和完整性否
十三、 其他
□适用 √不适用
目录
第一节 释义 ...... 5
第二节 公司简介和主要财务指标...... 8
第三节 管理层讨论与分析...... 12
第四节 公司治理 ...... 51
第五节 环境、社会责任和其他公司治理...... 67
第六节 重要事项 ...... 72
第七节 股份变动及股东情况...... 107
第八节 优先股相关情况 ...... 118
第九节 公司债券相关情况...... 118
第十节 财务报告...... 118
载有公司负责人、主管会计工作负责人、会计机构负责人签名并盖章
的财务报表
备查文件目录 载有会计师事务所盖章、注册会计师签名并盖章的审计报告文本
经公司负责人签名的公司2021年年度报告文本原件
报告期内在中国证监会指定网站上公开披露过的所有公司文件的正本
及公告原稿
第一节 释义
一、 释义
在本报告书中，除非文义另有所指，下列词语具有如下含义：
常用词语释义
公司,本公司,盛美 指 盛美半导体设备（上海）股份有限公司
上海,盛美半导体
盛美无锡 指 盛美半导体设备无锡有限公司，盛美上海全资子公司
盛帷上海 指 盛帷半导体设备（上海）有限公司，盛美上海全资子公司
香港清芯 指 CleanChip Technologies Limited，清芯科技有限公司，盛美上海
全资子公司
盛美韩国 指 ACM Research Korea CO., LTD.，香港清芯的全资子公司
盛美加州 指 ACM RESEARCH (CA), INC.，香港清芯的全资子公司
盛奕科技， 指 盛奕半导体科技（无锡）有限公司，盛美上海参股公司
盛奕半导体
合肥石溪 指 合肥石溪产恒集成电路创业投资基金合伙企业（有限合伙），盛美
上海参股企业
青岛聚源 指 青岛聚源芯星股权投资合伙企业（有限合伙），盛美上海参股企业
美国 ACMR，ACMR 指 ACM RESEARCH, INC.，
美国 NASDAQ 股票市场上市公司，盛美上海控股股东
长江存储 指 长江存储科技有限责任公司，盛美上海客户
中芯国际 指 中芯国际集成电路制造有限公司，盛美上海客户
海力士 指 SK Hynix Inc.，盛美上海客户
华虹集团 指 上海华虹（集团）有限公司，盛美上海客户
长电科技 指 江苏长电科技股份有限公司，盛美上海客户
通富微电 指 通富微电子股份有限公司，盛美上海客户
中芯长电 指 中芯长电半导体（江阴）有限公司，盛美上海客户
Nepes 指 Nepes corporation，盛美上海客户
台湾合晶科技 指 合晶科技股份有限公司，盛美上海客户
华进半导体 指 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司，盛美上海客户
NINEBELL 指 NINEBELL CO.,LTD.，盛美上海供应商
DNS 指 SCREEN Holdings Co., Ltd.
TEL 指 TOKYO ELECTRON LTD.
LAM 指 LAM RESEARCH CORPORATION
SEMES 指 SEMES Co. Ltd.
北方华创 指 北方华创科技集团股份有限公司
芯源微 指 沈阳芯源微电子设备股份有限公司
至纯科技 指 上海至纯洁净系统科技股份有限公司
中微公司 指 中微半导体设备（上海）股份有限公司
ASML 指 ASML Holding N.V.
KLA 指 KLA CORPORATION
Applied 指 Applied Materials, Inc.
Materials
NASDAQ 指 National Association of Securities Dealers Automated
Quotations，美国纳斯达克股票市场
半导体 指 常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料，按照制造技术可分
为集成电路（IC）、分立器件、光电子和传感器，可广泛应用于下
游通信、计算机、消费电子、网络技术、汽车及航空航天等产业
硅片 指 Silicon Wafer，半导体级硅片，用于集成电路、分立器件、传感
器等半导体产品制造
Integrated Circuit，指通过一系列特定的加工工艺，将晶体管、
IC、集成电路 指 二极管等有源器件和电阻器、电容器等无源原件按一定的电路互联
并集成在半导体晶片上，封装在一个外壳内，执行特定功能的电路
或系统
晶圆 指 在氧化/扩散、光刻、刻蚀、离子注入、薄膜生长、清洗与抛光、
金属化等特定工艺加工过程中的硅片
晶圆厂 指 通过一系列特定的加工工艺，在硅片上加工制造半导体器件的生产
厂商
芯片 指 集成电路的载体，也是集成电路经过设计、制造、封装、测试后的
结果
图形晶圆 指 表面带图案结构的晶圆
晶圆制造、芯片制 指 将通过一系列特定的加工工艺，将半导体硅片加工制造成芯片的过
造 程，分为前道晶圆制造和后道封装测试。
存储器 指 电子系统中的记忆设备，用来存放程序和数据
功率器件 指 用于电力设备的电能变换和控制电路方面大功率的电子器件
NAND 闪存 指 快闪记忆体/资料储存型闪存
5G 指 5th-Generation，即第五代移动电话行动通信标准
光刻 指 利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递
到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术
用化学或物理方法有选择地在硅表面去除不需要的材料的过程，是
刻蚀 指 与光刻相联系的图形化处理的一种主要工艺，是半导体制造工艺的
关键步骤
涂胶 指 将光刻胶均匀涂覆到晶圆表面的过程
显影 指 将曝光完成的晶圆进行成像的过程，通过这个过程，成像在光阻上
的图形被显现出来
CVD 指 Chemical Vapor Deposition，化学气相沉积
LPCVD 指 Low Pressure Chemical Vapor Deposition，低压力化学气相沉
积
ALD 指 Atomic Layer Deposition，原子层沉积，是一种可以将物质以单
原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法
DRAM 指 Dynamic Random Access Memory，动态随机存取存储器
Stress Free Polish，无应力抛光技术，该技术利用电化学反应原
SFP 指 理，在抛除晶圆表面金属膜的过程中，摒弃抛光过程的机械压力，
根除机械压力对金属布线的损伤
电介质材料 指
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