联系客服

688072 科创 拓荆科技-U


首页 公告 拓荆科技:2024年年度业绩预告的自愿性披露公告

拓荆科技:2024年年度业绩预告的自愿性披露公告

公告日期:2025-01-21


证券代码:688072        证券简称:拓荆科技      公告编号:2025-003

              拓荆科技股份有限公司

        2024 年年度业绩预告的自愿性披露公告

    本公司董事会及全体董事保证本公告内容不存在任何虚假记载、误导性陈 述或者重大遗漏,并对其内容的真实性、准确性和完整性依法承担法律责任。
    一、本期业绩预告情况

  (一)业绩预告期间

  2024年1月1日至2024年12月31日。

  (二)业绩预告情况

  经财务部门初步测算,预计拓荆科技股份有限公司(以下简称“公司”)2024年年度实现营业收入400,000.00万元至420,000.00万元,与上年同期相比增加129,502.60万元至149,502.60万元,同比增长47.88%至55.27%。

    二、上年同期业绩情况

  公司2023年年度实现营业收入270,497.40万元。

    三、本期业绩变化的主要原因

  公司预计2024年年度营业收入较上年同期有较大增幅,主要原因如下:

  1、面向国内集成电路行业快速发展带来的机遇,公司作为国内高端半导体设备领域的领军企业,继续专注于薄膜沉积设备和混合键合设备的自主研发与产业化,凭借在产品技术创新、客户资源、售后服务等方面的核心竞争优势,PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、超高深宽比沟槽填充CVD(FlowableCVD)及混合键合设备等系列产品量产规模不断扩大,持续获得客户订单,公司业务规模呈现快速增长趋势。2024年度,公司出货超过1,000个设备反应腔,创公司历史年度新高。

  2、2024年度,公司持续保持高强度的研发投入,坚持自主创新,在推进新
产品研发、产品产业化和各产品系列迭代升级的过程中取得了重要成果,包括FlowableCVD设备、PECVDBianca工艺设备、PE-ALDSiN工艺设备、HDPCVDFSG、HDPCVDSTI工艺设备、键合套准精度量测设备等一系列新产品及新工艺经下游用户验证导入,实现了产业化,同时,新型设备平台PF-300M、PF-300TPlus及新型反应腔Supra-DACHM、ONOStack等工艺设备顺利通过客户验证,并取得客户重复订单,实现大批量出货,进一步提升了公司产品性能及核心竞争力,助力公司收入稳步增长。

    四、风险提示

  本业绩预告相关财务数据未经注册会计师审计,公司尚未发现影响本次业绩预告内容准确性的重大不确定因素。

    五、其他说明事项

  以上预告数据仅为初步核算数据,具体准确的财务数据以公司正式披露的经审计后的 2024 年年报为准,敬请广大投资者注意投资风险。

  特此公告。

                                          拓荆科技股份有限公司董事会
                                                    2025 年 1 月 21 日