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688037 科创 芯源微


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688037:芯源微2020年半年度报告

公告日期:2020-08-27

688037:芯源微2020年半年度报告 PDF查看PDF原文

公司代码:688037                                        公司简称:芯源微
    沈阳芯源微电子设备股份有限公司

          2020 年半年度报告


                          重要提示

一、 本公司董事会、监事会及董事、监事、高级管理人员保证半年度报告内容的真实、准确、完
  整,不存在虚假记载、误导性陈述或重大遗漏,并承担个别和连带的法律责任。
二、  重大风险提示

  公司已在本报告中详细阐述了公司在经营过程中可能面临的各种风险及应对措施,敬请查阅本报告第四节“经营情况的讨论与分析”。敬请投资者注意投资风险,审慎作出投资决定。
三、公司全体董事出席董事会会议。
四、 本半年度报告未经审计。
五、 公司负责人宗润福、主管会计工作负责人李风莉及会计机构负责人(会计主管人员)林顺富
  声明:保证半年度报告中财务报告的真实、准确、完整。
六、 经董事会审议的报告期利润分配预案或公积金转增股本预案

  无
七、 是否存在公司治理特殊安排等重要事项
□适用 √不适用
八、 前瞻性陈述的风险声明
√适用 □不适用

  本报告所涉及的公司未来计划、发展战略等前瞻性陈述,不构成公司对投资者的实质承诺,请投资者注意投资风险。
九、 是否存在被控股股东及其关联方非经营性占用资金情况

  否
十、  是否存在违反规定决策程序对外提供担保的情况?

  否
十一、 其他
□适用 √不适用


                        目录


第一节    释义 ...... 4
第二节    公司简介和主要财务指标 ...... 6
第三节    公司业务概要 ...... 9
第四节    经营情况的讨论与分析 ...... 17
第五节    重要事项 ...... 24
第六节    股份变动及股东情况 ...... 42
第七节    优先股相关情况 ...... 57
第八节    董事、监事、高级管理人员和员工情况 ...... 57
第九节    公司债券相关情况 ...... 59
第十节    财务报告 ...... 59
第十一节  备查文件目录 ...... 154

                        第一节  释义

在本报告书中,除非文义另有所指,下列词语具有如下含义:
常用词语释义
芯源微/公司/本公司  指  沈阳芯源微电子设备股份有限公司

先进制造            指  沈阳先进制造技术产业有限公司

科发实业            指  辽宁科发实业有限公司

中科院沈自所        指  中国科学院沈阳自动化研究所

国科投资            指  中国科技产业投资管理有限公司

国科瑞祺            指  国科瑞祺物联网创业投资有限公司

国科正道            指  北京国科正道投资中心(有限合伙)

沈阳科投            指  沈阳科技风险投资有限公司

台积电              指  台湾积体电路制造股份有限公司

长电科技            指  江苏长电科技股份有限公司及其下属企业

华天科技            指  天水华天科技股份有限公司及其下属企业

通富微电            指  通富微电子股份有限公司及其下属企业

晶方科技            指  苏州晶方半导体科技股份有限公司

中芯宁波            指  中芯集成电路(宁波)有限公司

中芯绍兴            指  中芯集成电路制造(绍兴)有限公司

华灿光电            指  华灿光电股份有限公司及其下属企业

乾照光电            指  厦门乾照光电股份有限公司及其下属企业

澳洋顺昌            指  江苏澳洋顺昌股份有限公司及其下属企业

上海华力、华力集成  指  上海华力集成电路制造有限公司

长江存储            指  长江存储科技有限责任公司

大连德豪            指  大连德豪光电科技有限公司

株洲中车            指  株洲中车时代电气股份有限公司

青岛芯恩            指  芯恩(青岛)集成电路有限公司

上海积塔            指  上海积塔半导体有限公司

昆明京东方          指  昆明京东方显示技术有限公司

厦门士兰集科        指  厦门士兰集科微电子有限公司

日本东京电子、TEL    指  東京エレクトロン株式会社(Tokyo Electron Ltd.)

日本迪恩士、DNS      指  株式会社 SCREEN ホールディングス(SCREEN Holdings Co., Ltd.)

美国应用材料        指  Applied Materials, Inc.

荷兰阿斯麦          指  Advanced Semiconductor Material Lithography

美国泛林集团        指  Lam Research Corporation

美国科天            指  KLA-Tencor Corporation

中国证监会          指  中国证券监督管理委员会

《公司法》          指  《中华人民共和国公司法》

《证券法》          指  《中华人民共和国证券法》

《公司章程》        指  《沈阳芯源微电子设备股份有限公司章程》

报告期              指  2020 年上半年

元,万元            指  如无特别说明,指人民币元、人民币万元

半导体              指  常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料,按照制造技术可分
                          为集成电路(IC)、分立器件、光电子和传感器,可广泛应用于下
                          游通信、计算机、消费电子、网络技术、汽车及航空航天等产业

集成电路            指  集成电路 Integrated Circuit,指通过一系列特定的加工工艺,
                          将晶体管、二极管等有源器件和电阻器、电容器等无源原件按一定
                          的电路互联并集成在半导体晶片上,封装在一个外壳内,执行特定
                          功能的电路或系统,可进一步细分为逻辑电路、存储器、微处理器、


                          模拟电路四种

芯片                指  集成电路的载体,也是集成电路经过设计、制造、封装、测试后的
                          结果

光刻                指  利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法,将电路图形传递
                          到单晶表面或介质层上,形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术

刻蚀                指  用化学或物理方法有选择地在硅表面去除不需要的材料的过程,是
                          与光刻相联系的图形化处理的一种主要工艺,是半导体制造工艺的
                          关键步骤

涂胶                指  将光刻胶均匀涂覆到晶圆表面的过程

显影                指  将曝光完成的晶圆进行成像的过程,通过这个过程,成像在光阻上
                          的图形被显现出来

先进封装            指  处于前沿的封装形式和技术。目前,带有倒装芯片(FC)结构的封
                          装、圆片级封装(WLP)、系统级封装(SiP)、2.5D 封装、3D 封
                          装等均被认为属于先进封装范畴

测试                指  把已制造完成的半导体元件进行结构及电气功能的确认,以保证半
                          导体元件符合系统的需求

MEMS                指  Micro-Electro-Mechanical System,微机电系统

VLSI                指  VLSI Research Inc.

LED                  指  Light-Emitting-Diode,发光二极管

晶圆                指  用于制作芯片的圆形硅晶体半导体材料

机械手、机械臂      指  一种能模仿人手和臂的某些动作功能,用以按固定程序抓取、搬运
                          物件或操作工具的自动操作装置,特点是可以通过编程来完成各种
                          预期的作业,构造和性能上兼有人和机械手机器各自的优点

光刻胶              指  微电子技术中微细图形加工的关键材料之一。根据其化学反应机理
                          和显影原理,可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的
                          是负性胶;反之,对某些溶剂是不可溶的,经光照后变成可溶物质
                          的即为正性胶

离子注入            指  离子束射到固体材料以后,受到固体材料的抵抗而速度慢慢减低下
                          来,并最终停留在固体材料中

技术节点            指  泛指在集成电路制造过程中的“特征尺寸”,尺寸越小,表明工艺
                          水平越高,如 130nm、90nm、28nm、14nm、7nm 等

Inline              指  光刻机与涂胶显影机联机作业,即在涂胶显影机中完成光刻胶涂覆
                          工序后由涂胶显影机自动传输晶圆至光刻机,光刻机完成曝光工序
                          后,自动传回至涂胶显影机进行显影工序

Spin Scrubber 设备  指  单晶圆清洗设备,目前主流技术为用二流体喷嘴方式进行去除晶圆
                          表面颗粒的清洗设备

base line 设备      指  标杆产品或设备,即客户为满足具体工艺技术规格所采用的指定品
                          牌和型号的设备,一般来说,也是各产线上的主力设备

化合物(半导体)    指  由两种或两种以上元素以确定的原子配比形成的化合物,并具有确
                          定的禁带宽度和能带结构等半导体性质。化合物半导体相比较单晶
                          硅锗衬底材料具有高击穿电场、高饱和电子速度、高热导率、高电
                          子密度、高迁移率等特点,可实现高压、高温、高频、高抗辐射能
                          力,其在 5G,高频,高功率等方面的应用在不断扩展

前道                指  集成电路芯片制造的前道工序,是把衬底材料(目前集成电路主要
                   
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