688019 科创 安集科技

公司代码：688019                                          公司简称：安集科技
  安集微电子科技（上海）股份有限公司
            2023 年年度报告


                          重要提示

一、 本公司董事会、监事会及董事、监事、高级管理人员保证年度报告内容的真实性、准确性、
  完整性，不存在虚假记载、误导性陈述或重大遗漏，并承担个别和连带的法律责任。
二、公司上市时未盈利且尚未实现盈利
□是 √否
三、重大风险提示

  公司已在本报告中详细阐述公司在经营过程中可能面临的各种风险及应对措施，敬请查阅本报告第三节“管理层讨论与分析”之“四、风险因素”。
四、公司全体董事出席董事会会议。
五、毕马威华振会计师事务所（特殊普通合伙）为本公司出具了标准无保留意见的审计报告。
六、 公司负责人 Shumin Wang、主管会计工作负责人 Zhang Ming 及会计机构负责人（会计主管人
  员）Zhang Ming 声明：保证年度报告中财务报告的真实、准确、完整。
七、 董事会决议通过的本报告期利润分配预案或公积金转增股本预案

  经公司董事会审议通过的利润分配预案及公积金转增股本预案为：

  公司拟以实施2023年度利润分派股权登记日的总股本扣减公司回购专用证券账户中股份为基数，向全体股东每10股派发现金红利3.50元（含税）。截至2024年4月15日，公司总股本为
99,070,448股，扣除公司回购账户后剩余股本为98,947,639股，以此计算合计拟派发现金红利总额为34,631,673.65元（含税），占母公司当年实现可分配利润比例约10.62%，占公司合并报表归属上市公司股东净利润的8.60%，剩余未分配利润结转以后年度分配；公司拟向全体股东以资本公积金转增股本每10股转增3股，不送红股。

  本次利润分配方案尚需提交本公司2023年年度股东大会审议通过。
八、 是否存在公司治理特殊安排等重要事项
□适用 √不适用
九、 前瞻性陈述的风险声明
√适用 □不适用

  本报告所涉及的公司未来计划、发展战略等前瞻性陈述，不构成公司对投资者的实质承诺，请投资者注意投资风险。

十、 是否存在被控股股东及其他关联方非经营性占用资金情况
否
十一、 是否存在违反规定决策程序对外提供担保的情况
否
十二、 是否存在半数以上董事无法保证公司所披露年度报告的真实性、准确性和完整性否
十三、 其他
□适用 √不适用


                            目录


第一节    释义 ...... 4
第二节    公司简介和主要财务指标 ...... 9
第三节    管理层讨论与分析 ...... 14
第四节    公司治理 ...... 55
第五节    环境、社会责任和其他公司治理 ...... 79
第六节    重要事项 ...... 86
第七节    股份变动及股东情况 ...... 109
第八节    优先股相关情况 ......119
第九节    债券相关情况 ......119
第十节    财务报告 ...... 120

                    报告期内在中国证监会指定网站上公开披露过的所有公司文件的正文
    备查文件目录    及公告的原稿

                    载有会计师事务所盖章、注册会计师签名并盖章的审计报告原件


                        第一节  释义

一、 释义
在本报告书中，除非文义另有所指，下列词语具有如下含义：
 常用词语释义

 安集科技、公司  指  安集微电子科技（上海）股份有限公司

 Anji Cayman      指  Anji Microelectronics Co. Ltd.，公司控股股东

 安续投资        指  宁波安续企业管理合伙企业（有限合伙）

 上海安集        指  安集微电子（上海）有限公司，公司全资子公司

 宁波安集        指  宁波安集微电子科技有限公司，公司全资子公司

 台湾安集        指  台湾安集微电子科技有限公司，公司全资子公司

 宁波安集投资    指  宁波安集股权投资有限公司，公司全资子公司

 北京安集        指  北京安集微电子科技有限公司，公司全资子公司

 安集电子材料    指  上海安集电子材料有限公司，公司全资子公司

 新加坡安集      指  ANJI MICROELECTRONICS PTE. LTD.，宁波安集投资全资子公司

 法国 CT          指  CORDOUAN TECHNOLOGIES，新加坡安集全资子公司

 SEPPURE          指  SEPPURE PTE. LTD.

 安特纳米        指  山东安特纳米材料有限公司

 钥熠电子        指  上海钥熠电子科技有限公司

 股东大会        指  安集微电子科技（上海）股份有限公司股东大会

 董事会          指  安集微电子科技（上海）股份有限公司董事会

 监事会          指  安集微电子科技（上海）股份有限公司监事会

 高级管理人员    指  公司总经理、副总经理、财务总监、董事会秘书

 《公司章程》    指  《安集微电子科技（上海）股份有限公司章程》

 《公司法》      指  《中华人民共和国公司法》

 《证券法》      指  《中华人民共和国证券法》

 中国证监会      指  中国证券监督管理委员会

 上交所          指  上海证券交易所

 报告期          指  2023 年 1 月 1 日-2023 年 12 月 31 日

 化 学 机 械 抛 光        Chemical Mechanical Planarization，集成电路制造过程中实现晶
 （CMP）          指  圆全局均匀平坦化的关键工艺。与传统的纯机械或纯化学的抛光方法
                      不同，CMP 技术由化学作用和机械作用两方面协同完成。

 化 学 机 械 抛 光        由纳米级研磨颗粒和高纯化学品组成，是化学机械抛光工艺过程中使
 液、抛光液、研  指  用的主要化学材料。

 磨液

 研磨颗粒、纳米  指  为生产化学机械抛光液所需的关键原材料，主要包括硅溶胶、气相二
 磨料                  氧化硅和二氧化铈等品类。

                      通过化学处理、气体或物理方法去除晶片表面杂质的过程。通常在工
                      艺之间进行，用于去除芯片制造中上一道工序所遗留的超微细颗粒污
                      染物、金属残留、有机物残留物，去除光阻掩膜或残留，也可根据需
 清洗技术        指  要进行硅氧化膜、氮化硅或金属等薄膜材料的湿法腐蚀，为下一步工
                      序准备好良好的表面条件。晶圆清洗步骤数量约占所有芯片制造工序
                      步骤 30%以上，而且随着节点的推进，清洗工序的数量和重要性会继
                      续提升。根据清洗介质的不同，目前半导体清洗技术主要分为湿法清
                      洗和干法清洗两种工艺路线，晶圆制造产线上通常以湿法清洗为主。

                      针对不同的工艺需求，采用特定的化学药液和去离子水，对晶圆表面
 湿法清洗        指  进行无损伤清洗，以去除晶圆制造过程中的颗粒、自然氧化层、有机
                      物、金属污染、牺牲层、抛光残留物等物质，可同时采用超声波、加


                      热、真空等辅助技术手段。

                      是超大规模集成电路、平板显示、太阳能电池等制作过程中不可缺少
湿电子化学品、  指  的关键性基础化工材料之一，一般要求超净和高纯，对生产、包装、
工艺化学品            运输及使用环境的洁净度都有极高要求。按照组成成分和应用工艺不
                      同，可将湿电子化学品分为通用湿化学品和功能性湿化学品两大类。

                      半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光
光刻            指  刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转
                      移到所在衬底上。

光刻胶          指  光刻中采用的感光物质，其利用光照反应后溶解度不同将掩膜版图形
                      转移至衬底上。

                      刻蚀过程中光刻胶定义的图像被转移到晶圆表面并且刻蚀到定义的
光刻胶去除      指  深度，刻蚀之后作为刻蚀保护层或者阻挡层的剩余光刻胶需要从晶圆
                      表面去除。

                      又称“清洗液”、“剥离液”、“去胶液”，是光刻胶去除工艺中使
光刻胶去除剂、  指  用的化学材料，主要由刻蚀剂、溶剂及添加剂等组成，通过将半导体
光阻去除剂            晶片浸入清洗液中或者利用清洗液冲洗半导体晶片，去除半导体晶片
                      上的光刻胶及其光刻胶刻蚀后残留物。

刻蚀后清洗液    指  一种光刻胶去除剂，应用于干法刻蚀后晶圆表面残留物去除。

光刻胶剥离液    指  一种光刻胶去除剂，应用于厚膜光刻胶去除，包括晶圆级封装以及部
                      分集成电路工艺。

半导体电镀、电  指  在芯片制造过程中，将电镀液中的金属离子电镀到晶圆表面形成金属
化学沉积              互连。

电镀基础液      指  提供电沉积金属离子，与电镀液添加剂相互作用，在电场作用下实现
                      金属电化学沉积。

电镀液添加剂    指  电镀工艺核心材料，改善镀层性能及电镀质量。在电镀工艺中，电镀
                      液添加剂与基础液相互作用，在电场作用下实现金属电化学沉积。

                      用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料的过程，主
                      要分为干法刻蚀和湿法刻蚀，其中湿法刻蚀指用液体化学试剂（如酸、
刻蚀            指  碱和溶剂等）以化学的方式去除硅片表面的材料，干法刻蚀是通过等
                      离子气与硅片发生物理或化学反应（或结合物理、化学两种反应）的
                      方式将表面材料去除。

                      Integrated Circuit，是一种微型电子器件或部件。通过氧化、光刻、
芯片、集成电路  指  扩散、外延、蒸镀、表面处理等制造工艺，把电路设计中所需的晶体
（IC）                管、电阻、电容和电感等元件进行布线互连，在硅晶圆或化合物材料
                      的基板上，再进行封装工艺分割而成。

制程、节点、特  指  晶体管栅极宽度的尺寸，用来衡量半导体芯片制造的工艺水准。尺寸
征线宽                越小，表