科创|拓荆科技(688072)股票行情走势图，个股数据全览

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688072 拓荆科技 - 基本信息更多

1、公司名称：拓荆科技股份有限公司
2、所属证监行业：制造业-专用设备制造业
3、上市日期：2022-04-20
4、流通市值：909.55亿
5、股东人数：78.46%
6、资产负债：67.7200%
7、每股收益：2.00元
8、人均持股：2900000.00元
9、筹码集中：非常集中
10、法人代表：刘静
11、证券类别：上交所科创板A股

拓荆科技股东人数变化更多

股东户数

*最新 2025-09-30 股东人数25220户，较上期 110.88户，较上期变化 +78.46% 。

拓荆科技股票每股收益财务分析更多

每股收益

拓荆科技十大股东数据

*拓荆科技十大股东总持仓比变化

*拓荆科技十大股东最新记录更多

股东名称持股数量持股比例

拓荆科技龙虎榜数据更多

上榜日期	上榜原因	买入额	卖出额	席位净额	龙虎榜席位
2023-04-14	有价格涨跌幅限制的日收盘价格涨幅达到15%的前五只证券	4.82亿	2.31亿	2.5亿	查看
2023-04-14	有价格涨跌幅限制的连续3个交易日内收盘价格涨幅偏离值累计达到30%的证券	6.93亿	3.14亿	3.78亿	查看
2022-10-11	有价格涨跌幅限制的日收盘价格跌幅达到15%的前五只证券	1.96亿	2.81亿	-8519.47万	查看
2022-08-29	有价格涨跌幅限制的日收盘价格涨幅达到15%的前五只证券	4802.84万	3727.61万	1075.23万	查看
2022-07-06	有价格涨跌幅限制的日收盘价格涨幅达到15%的前五只证券	1.4亿	1.06亿	3430.68万	查看
2022-04-27	有价格涨跌幅限制的日收盘价格涨幅达到15%的前五只证券	7363.85万	8553.26万	-1189.41万	查看

拓荆科技公司信息

曾经用名

公司简介

拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月,是国家高新技术企业,主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司多次获评中国半导体行业协会授予的“中国半导体设备五强企业”称号。拓荆在北京、上海、海宁、青岛、沈阳和美国、BVI、新加坡及日本成立子公司。拓荆主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备、次常压化学气相沉积(SACVD)设备、高密度等离子体化学气相沉积(HDPCVD)设备、超高深宽比沟槽填充(Flowable CVD)设备和三维集成(W2W/D2W Hybrid Bonding)设备以及相关量测设备等系列,拥有自主知识产权,技术指标达到国际同类产品的先进水平。产品主要应用于集成电路晶圆制造、先进存储和先进封装、HBM、MEMS、Micro-LED和Micro-OLED显示等高端技术领域。拓荆产品已进入北京、上海、武汉、合肥、天津、台湾等20多个地区的70多条生产线,并设有技术服务中心,为客户提供每周7天,每天24小时的技术支持。公司已形成一支国际化的专业团队,具备高科技研发实力及管理经验。通过多年技术积累,公司已建立自主知识产权的核心技术群及知识产权体系,被国家知识产权局评为“国家知识产权示范企业(2022-2025)”。拓荆总部坐落于沈阳市浑南区,拥有现代化办公大楼及高等级洁净厂房,总建筑面积达40,000平方米,2025年6月,投资近十亿的上海二厂已正式启用,同时投入十多亿筹建沈阳二厂。公司已获得ISO9001、ISO14001、ISO45001体系的认证。通过与全球的供应商合作,形成了稳定的供应链系统。拓荆公司愿与业界伙伴建立真诚、友好、共赢的产业合作联盟,为中国及世界半导体产业的发展做出贡献。

经营范围

一般项目:企业总部管理;企业管理;企业管理咨询;自有资金投资的资产管理服务;以自有资金从事投资活动;财务咨询;社会经济咨询服务;租赁服务(不含许可类租赁服务);国内贸易代理;销售代理。(除依法须经批准的项目外,凭营业执照依法自主开展经营活动)(最终以工商登记机关核定为准)

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